消耗臭氧层的物质有哪些
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消耗臭氧层物质(ODS)主要来源于人工合成的一些含有卤族元素的化合物,它们是造成平流层臭氧损耗的最重要因素,这些造成臭氧层破坏的化合物统称为臭氧层损耗物质。目前的臭氧层损耗物质包括:1、氟氯化碳和哈龙,主要是氟利昂CFC-11、CFC-12等和哈龙Halon-1211、Halon-1301、Halon-2402;2、其他全卤化氟氯化碳,如CFC-13、CFC-111等10种化合物;3、四氯化碳和甲基氯仿;4、氟氯烃类,如HCFC-21、HCFC-22等共74种;5、甲基溴。
在臭氧层的研究和保护过程中,特别受到关注的是氟利昂和哈龙类化合物。科学研究发现,这些物质在对流层中不发生光分解作用,也基本不在对流层被氧化,由于难溶于水,也不易被降水去除。因此这些臭氧损耗物质的大气寿命相当长。科学研究表明,氟利昂类物质也是温室气体,它们吸收红外辐射的能力比二氧化碳要强得多,因此具有破坏臭氧层和影响全球气候变化的双重效应。
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